Conformal Coating of Lithographic Polymer on 3D Structure via Initiated Chemical Vapor Deposition for MEMS fabrication
Conformal Coating of Lithographic Polymer on 3D Structure via Initiated Chemical Vapor Deposition for MEMS fabrication
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通过引发化学气相沉积在 3D 结构上进行光刻聚合物保形涂层，用于 MEMS 制造
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Masayoshi Esashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shinya Yoshida;Tatsuya Kobayashi;Masafumi Kumano;and Masayoshi Esashi
