ナノワイヤの堆積プロセスと回路応用
ナノワイヤの堆積プロセスと回路応用
复制标题
纳米线沉积工艺及电路应用
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
和保 孝夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小谷博亮;矢口僚人;和保孝夫;和保 孝夫
