Amorphous Germanium for Mid Infrared Photonics

Amorphous Germanium for Mid Infrared Photonics
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用于中红外光子学的非晶锗

DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
2019 Workshop on Recent Advances in Photonics (WRAP)
影响因子：
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通讯作者：
S. Selvaraja
S. Selvaraja
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
V. Mere;Rakshitha Kallega;S. Selvaraja

文献摘要

被引文献

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我们提出了一种用于中红外光子学的低温等离子体增强化学气相沉积非晶锗薄膜。通过调节沉积参数，薄膜的透过率为3.2~8μm，最小平均粗糙度为0.2 6 nm。
We present a low-temperature plasma-enhanced-chemical-vapor-deposition of amorphous germanium films for Mid-infrared photonics. A film transparency of 3.2 to 8 μm with a minimum average roughness of 0.26 nm is achieved by tuning the deposition parameters.