Deep Image Segmentation for Defect Detection in Photo-lithography Fabrication
Deep Image Segmentation for Defect Detection in Photo-lithography Fabrication
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用于光刻制造中缺陷检测的深度图像分割
DOI：
10.1109/isqed57927.2023.10129372
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Samad, Manar D.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Paul, Omari;Abrar, Sakib;Mu, Richard;Islam, Riadul;Samad, Manar D.
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DOI：
10.23919/icact53585.2022.9728861
发表时间：
2022-02
期刊：
2022 24th International Conference on Advanced Communication Technology (ICACT)
影响因子：
--
作者：
Jae-Min Cha;Juyong Park;J. Jeong
通讯作者：
Jae-Min Cha;Juyong Park;J. Jeong
使用先进的宏观检测将晶圆背面缺陷与光刻热点关联起来
DOI：
--
发表时间：
2006
期刊：
SPIE Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
A. Carlson;Tuan D. Le
通讯作者：
Tuan D. Le
DOI：
10.1109/smacd.2018.8434561
发表时间：
2018-07
期刊：
2018 15th International Conference on Synthesis, Modeling, Analysis and Simulation Methods and Applications to Circuit Design (SMACD)
影响因子：
--
作者：
V. Borisov;J. Scheible
通讯作者：
V. Borisov;J. Scheible
通过机器学习改进光刻中开发后检测的颜色缺陷检测
影响因子：
2.7
作者：
Matthew P. McLaughlin;P. Mennell;A. Stamper;Gabriel Barber;Janice Paduano;Emerson Benn;M. Linnane;Justin Zwick;Chetan Khatumria;Robert L. Isaacson;Nathan Hoffman;C. Menser
通讯作者：
C. Menser
DOI：
10.48550/arxiv.1703.04495
发表时间：
2017
期刊：
--
影响因子：
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作者：
Manenti R
通讯作者：
Manenti R