Remote nitrogen microwave plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane precursor. 2. Properties of deposited silicon carbonitride films
Remote nitrogen microwave plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane precursor. 2. Properties of deposited silicon carbonitride films
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四甲基二硅氮烷前体的远程氮微波等离子体化学气相沉积。
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
D. Bieliński
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Iwona Blaszczyk;A. Wrobel;D. Bieliński
