スパッタリングで形成したTa薄膜における電気抵抗の歪み誘起1/f 雑音
スパッタリングで形成したTa薄膜における電気抵抗の歪み誘起1/f 雑音
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溅射形成的 Ta 薄膜中应变引起的 1/f 电阻噪声
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
上杉良太，小峰啓史，水野将臣，安藤亮，赤羽秀郎
中科院分区：
文献类型：
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作者：
L. Jin;T. Takaguchi;E. Kondoh and B. Gelloz;安藤亮，小峰啓史;波多野陽，昊亭，王道洪，高木伸之;小峰啓史，青野友祐，村田正行，長谷川靖洋;Eiichi Kondoh Katsuya Suzuki Satomi Hamada Shohei Shima Hirokuni Hiyama;瀧森良造，ウ・ティン，王道洪，高木伸之;上杉良太，小峰啓史，水野将臣，安藤亮，赤羽秀郎
