Y.Ishikawa,M.Kosugi,M.Kumezawa,T.Tsuchiya,M.Tabe: "Capacitance-voltage study of single-crystalline Si dots on ultrathin SiO_2 formed by nanometer-scale local oxidation"Thin Solid Films. 369・1-2. 69-72 (2000)
Y.Ishikawa,M.Kosugi,M.Kumezawa,T.Tsuchiya,M.Tabe: "Capacitance-voltage study of single-crystalline Si dots on ultrathin SiO_2 formed by nanometer-scale local oxidation"Thin Solid Films. 369・1-2. 69-72 (2000)
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Y.Ishikawa、M.Kosugi、M.Kumezawa、T.Tsuchiya、M.Tabe：“纳米级局部氧化形成的超薄 SiO_2 上单晶硅点的电容电压研究”薄固体薄膜 369・1-。 2. 69-72 (2000)
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