シリコン結晶中の高濃度δドーピング層ビスマス不純物のハイブリッドレーザアニール法による活性化
シリコン結晶中の高濃度δドーピング層ビスマス不純物のハイブリッドレーザアニール法による活性化
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混合激光退火法激活硅晶体高浓度δ掺杂层中的铋杂质
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
三木一司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
村田晃一;安武裕輔;日塔光一;坂本邦博;深津晋;三木一司
