S.Aritome, M.Morita, T.Tanaka and M.Hirose: "Low-temperature nitridation of fluorinated silicon dioxide films in ammonia gas"
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S.Aritome、M.Morita、T.Tanaka 和 M.Hirose：“氟化二氧化硅薄膜在氨气中的低温氮化”
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