シリコン量子ドットにおける表面酸化膜中電荷のコヒーレンス効果
シリコン量子ドットにおける表面酸化膜中電荷のコヒーレンス効果
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硅量子点表面氧化膜电荷的相干效应
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小田 俊理
中科院分区：
文献类型：
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作者：
前川 未知瑠;テノリオぺルル ハイメ;ヘルブスレブ エルンスト;山岡 裕;小寺 哲夫;小田 俊理
