Y.Ueda: "Deposition of a-Si:H Films by ECR Plasma CVD Using Large Diameter Multi-Slot Antennae" Surface and Coatings Technology. 74-75. 503-507 (1995)
Y.Ueda: "Deposition of a-Si:H Films by ECR Plasma CVD Using Large Diameter Multi-Slot Antennae" Surface and Coatings Technology. 74-75. 503-507 (1995)
复制标题
Y.Ueda：“使用大直径多槽天线通过 ECR 等离子体 CVD 沉积 a-Si:H 薄膜”表面和涂层技术。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
