Single-Mask Multidirectional Photolithography with Multiple R esist Coat for MultiLayered Microfluidic Networks
Single-Mask Multidirectional Photolithography with Multiple R esist Coat for MultiLayered Microfluidic Networks
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用于多层微流控网络的具有多重抗蚀剂涂层的单掩模多向光刻
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takaaki Suzuki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Suzuki;Y. Hirabayashi;K. Terao;I. Kanno;M. Washizu;and H. Kotera;Takaaki Suzuki
