X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) Analysis of Oxidation Behavior of Hydrogen-radical-treated Cu Surfaces
X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) Analysis of Oxidation Behavior of Hydrogen-radical-treated Cu Surfaces
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氢自由基处理铜表面氧化行为的 X 射线光电子能谱 (XPS) 分析
DOI：
10.1541/ieejsmas.139.38
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发表时间：
2019
影响因子：
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通讯作者：
須賀唯知
中科院分区：
文献类型：
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作者：
申盛斌;日暮栄治;古山洸太;山本道貴;須賀唯知
