Development of a Gas Jet-Type Z-Pinch EUV Light Source for Next-Generation Lithography
Development of a Gas Jet-Type Z-Pinch EUV Light Source for Next-Generation Lithography
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开发用于下一代光刻的气体喷射型 Z 收缩 EUV 光源
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et. al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
I. Song;R. S. Mohanty;M. Watanabe;T. Kawamura;et. al.
