77Kにおける単分子接合の局所加熱
77Kにおける単分子接合の局所加熱
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77K 下单分子结的局部加热
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
筒井真楠
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Williams-Harry;A. Bhaskar;G Ramakrishna;T. Goodson;III;M. Imamura;A. Mawatari;K. Nakao;H. Enozawa. T. Nishinaga. M. Ivoda;Masahiko Iyoda;伊興田正彦;M.Tsutsui;筒井真楠
