高濃度ドーピングしたシリコンを用いた2重量子ドットの電子輸送特性
高濃度ドーピングしたシリコンを用いた2重量子ドットの電子輸送特性
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高掺杂硅双量子点的电子传输特性
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小寺哲夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山岡裕;小田俊理;小寺哲夫
