2方向エッチングによるシリコン3次元フォトニック結晶の作製とフォトニックバンドギャップ効果
2方向エッチングによるシリコン3次元フォトニック結晶の作製とフォトニックバンドギャップ効果
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二维刻蚀和光子带隙效应制备三维硅光子晶体
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小田俊理
中科院分区：
文献类型：
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作者：
筆宝大平;土屋良重;水田 博;浦川 圭;越田信義;小田俊理
