Evaluation of Anisotropic Stress Relaxation in Mesa-Shaped Strained Si Layers by FEM Simulation
Evaluation of Anisotropic Stress Relaxation in Mesa-Shaped Strained Si Layers by FEM Simulation
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通过有限元模拟评估台面形应变硅层中的各向异性应力松弛
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Atsushi Ogura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Motohiro Tomita;Daisuke Kosemura;Koji Usuda;Tsutomu Tezuka;Atsushi Ogura
