Deposition of hard elastic hydrogenated fullerenelike carbon films
Deposition of hard elastic hydrogenated fullerenelike carbon films
复制标题
硬质弹性氢化类富勒烯碳膜的沉积
DOI：
10.1063/1.3590165
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发表时间：
2011-05
影响因子：
3.2
通讯作者：
Zhang, Junyan
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Wang, Zhou;Zhang, Junyan
采用脉冲直流等离子体增强化学气相沉积技术，在低温下均匀沉积了硬度为41.7±1.4 Gpa、弹性回复率为∼75.1%的氢化富勒烯碳膜。这个
Hydrogenated fullerenelike carbon (H-FLC) films, with high hardness of 41.7 ± 1.4 GPa and elastic recovery of ∼75.1%, have been uniformly deposited at low temperature by pulse direct current plasma enhanced chemical vapor deposition (pulse DC PECVD). The
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