回折プロファイルに及ぼすX線照射領域内のひずみ分布の影響
回折プロファイルに及ぼすX線照射領域内のひずみ分布の影響
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X射线照射区域内的应变分布对衍射图的影响
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
秋庭義明,天野雅大
中科院分区：
文献类型：
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作者：
堀田将臣;中山昇;三木寛之;宮崎孝道;武石洋征;秋庭義明,天野雅大
