Yong Sun,Ryusuke Nishitani and Tatsuro Miyasato: "Study of the Growth Mechanism of Nanocrystalline Si:H Films Prepared by Reactive Hydrogen Plasma Sputteringof Silicon." Japanese Journal of Applyed Physics.Vol.33. L1645-L1648 (1994)
Yong Sun,Ryusuke Nishitani and Tatsuro Miyasato: "Study of the Growth Mechanism of Nanocrystalline Si:H Films Prepared by Reactive Hydrogen Plasma Sputteringof Silicon." Japanese Journal of Applyed Physics.Vol.33. L1645-L1648 (1994)
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Yong Sun、Ryusuke Nishitani 和 Tatsuro Miyasato：“硅反应氢等离子体溅射制备纳米晶 Si:H 薄膜的生长机制的研究”。
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