T.Yamaguchi: "Deposition of SiOx Films Using Low Frequency Plasma CVD" Proceeding of the 12th Symposium on Plasma Processing. 12. 493-496 (1995)
T.Yamaguchi: "Deposition of SiOx Films Using Low Frequency Plasma CVD" Proceeding of the 12th Symposium on Plasma Processing. 12. 493-496 (1995)
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T.Yamaguchi：“使用低频等离子体 CVD 沉积 SiOx 薄膜”第 12 届等离子体处理研讨会论文集。
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