産業用MRIにおける不均一磁場の補正シフト処理
産業用MRIにおける不均一磁場の補正シフト処理
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工业MRI中非均匀磁场的校正位移处理
DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
田山典男、他
中科院分区:
文献类型:
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作者:
佐藤友哉;秋田敏宏;田山典男、他