電子ビームリソグラフィにおけるレジスト無帯電の露光条件探索
電子ビームリソグラフィにおけるレジスト無帯電の露光条件探索
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寻找电子束光刻中非静电抗蚀剂的曝光条件
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小寺 正敏
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小島 健太郎;久保 建統;河野 由伸;小寺 正敏
