In-Situ Ar Plasma Treatment as a Low Thermal Budget Technique for High Performance Ingasno Thin Film Transistors Fabricated Using Magnetron Sputtering
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DOI：
10.2139/ssrn.4122742
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发表时间：
2022-08
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Mengzhen Hu;Lei Xu;Xinnan Zhang;Zengcai Song;Shijun Luo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Mengzhen Hu;Lei Xu;Xinnan Zhang;Zengcai Song;Shijun Luo
