Nanofabrication of magnetic tunnel junctions by using electron beam lithography
Nanofabrication of magnetic tunnel junctions by using electron beam lithography
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使用电子束光刻技术纳米制造磁隧道结
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Niizeki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Hamamoto;Y.Tanaka;T.Watanabe;N.Sakaya;M.Hosoya;T.Shoki;H.Sugahara;N.Hishinuma;H.Hada;H.Kinoshita;T.Niizeki
