Vertical growth of carbon nanowalls using rf plasma-enhanced chemical vapor deposition
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DOI：
10.1016/j.diamond.2004.10.021
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发表时间：
2005-03
影响因子：
4.1
通讯作者：
K. Shiji;M. Hiramatsu;A. Enomoto;M. Nakamura;H. Amano;M. Hori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Shiji;M. Hiramatsu;A. Enomoto;M. Nakamura;H. Amano;M. Hori
