Single Event Gate Rupture in SiC MOS Capacitors with Different Gate Oxide Thicknesses

Single Event Gate Rupture in SiC MOS Capacitors with Different Gate Oxide Thicknesses
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不同栅极氧化层厚度的 SiC MOS 电容器中的单事件栅极破裂

DOI:
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发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
Takuro Tbmita and Takeshi Ohshima
Takuro Tbmita and Takeshi Ohshima
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Manato Deki;Takahiro Makino;Kazutoshi Kojima;Takuro Tbmita and Takeshi Ohshima

文献摘要

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