Makoto Ishida and Tetsuro Nakamura: "Selective Epitaxial Growth of Si on A12O3 using electron Beam irradiation" Extended Abstracts(The 39th Spring Meeting,1992)of The Japan Society of Applied Physics. No.0. 1235

Makoto Ishida and Tetsuro Nakamura: "Selective Epitaxial Growth of Si on A12O3 using electron Beam irradiation" Extended Abstracts(The 39th Spring Meeting,1992)of The Japan Society of Applied Physics. No.0. 1235
复制标题

Makoto Ishida 和 Tetsuro Nakamura:“使用电子束照射在 A12O3 上选择性外延生长 Si”扩展摘要(第 39 届春季会议,1992 年)日本应用物理学会。

DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
--
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:

文献摘要

相似文献