Epitaxial growth of α-(InxAl1-x)2O3 alloy films by mist chemical vapor deposition
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雾气化学气相沉积法外延生长α-(InxAl1-x)2O3合金薄膜
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and M. Yoshimoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
D. Tahara;H. Nishinaka;Y. Arata;and M. Yoshimoto
