直線状エロージョンマグネトロンスパッタリングによる(11-20)配向ZnO圧電膜の大面積成膜
直線状エロージョンマグネトロンスパッタリングによる(11-20)配向ZnO圧電膜の大面積成膜
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线蚀磁控溅射大面积沉积(11-20)取向ZnO压电薄膜
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大場正利
中科院分区：
文献类型：
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作者：
川本貴之;柳谷隆彦;松川真美;渡辺好章;森嘉一;佐々木昌;大場正利
