Erratum: “Formation and desorption of nickel hexafluoroacetylacetonate Ni(hfac)2 on a nickel oxide surface in atomic layer etching processes” [J. Vac. Sci. Technol. A 38, 052602 (2020)]
Erratum: “Formation and desorption of nickel hexafluoroacetylacetonate Ni(hfac)2 on a nickel oxide surface in atomic layer etching processes” [J. Vac. Sci. Technol. A 38, 052602 (2020)]
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勘误：“原子层蚀刻过程中六氟乙酰丙酮镍 Ni(hfac)2 的形成和解吸”[J. Vac. Technol.
DOI：
10.1116/6.0001319
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发表时间：
2021
影响因子：
2.9
通讯作者：
Hamaguchi Satoshi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Basher Abdulrahman H.;Krstic Marjan;Fink Karin;Ito Tomoko;Karahashi Kazuhiro;Wenzel Wolfgang;Hamaguchi Satoshi
