p型半導体スズニオブ酸化物におけるスズ周辺の酸素欠陥生成

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p型半导体锡铌氧化物中锡周围氧缺陷的产生

DOI:
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发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
西尾 圭史
西尾 圭史
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
三溝 朱音,菊地 直人,簔原 誠人,阪東 恭子,相浦 義弘;壬生 攻;西尾 圭史

文献摘要

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