M.Tanaka, T.Higuchi, K.Kudoh, T.Tsukamoto: "Growth of Bi_4Ti_3O_<12> Thin Film by Two-Dimensional RF Magnetron Sputtering with TiO_2 and Bi_2O_3 Targets"Japanese Journal of Applied Physics. 41. 3/15掲載 (2002)
M.Tanaka, T.Higuchi, K.Kudoh, T.Tsukamoto: "Growth of Bi_4Ti_3O_<12> Thin Film by Two-Dimensional RF Magnetron Sputtering with TiO_2 and Bi_2O_3 Targets"Japanese Journal of Applied Physics. 41. 3/15掲載 (2002)
复制标题
M.Tanaka、T.Higuchi、K.Kudoh、T.Tsukamoto：“使用 TiO_2 和 Bi_2O_3 靶材进行二维射频磁控溅射生长 Bi_4Ti_3O_<12> 薄膜”，日本应用物理学杂志，发表于 3/。 15 (2002)
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
