高圧水素プラズマによるSi表面の欠陥制御法の検討
高圧水素プラズマによるSi表面の欠陥制御法の検討
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高压氢等离子体硅表面缺陷控制方法研究
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
木元健太，垣内弘章，安武潔，大参宏昌
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiromasa Ohmi;Jumpei Sato;Tatsuya Hirano;Yusuke Kubota;Hiroaki Kakiuchi;and Kiyoshi Yasutake;遅澤伸宏，池田一畝，西山宏昭;浜中恵一，垣内弘章，安武潔，大参宏昌;小川雄也，木村 開登，梅津 寛，西山宏昭;浜中恵一，垣内弘章，安武潔，大参宏昌;西山宏昭;木元健太，垣内弘章，安武潔，大参宏昌
