C.Chang, T.Abe, M.Esashi: "Low Stress TEOS/Ozone PECVD Oxide for Deep Trench Filling"Proceedings of the 19th Sensor Symposium. 271-274 (2002)
C.Chang, T.Abe, M.Esashi: "Low Stress TEOS/Ozone PECVD Oxide for Deep Trench Filling"Proceedings of the 19th Sensor Symposium. 271-274 (2002)
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C.Chang、T.Abe、M.Esashi：“用于深沟槽填充的低应力 TEOS/臭氧 PECVD 氧化物”第 19 届传感器研讨会论文集。
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