High-speed Si etching with ClF3 neutral cluster beam
High-speed Si etching with ClF3 neutral cluster beam
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使用 ClF3 中性簇束进行高速硅蚀刻
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Aoki and J. Matsuo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Seki;Y. Yoshino;T. Senoo;K. Koike;T. Aoki and J. Matsuo
