温度制御型フォトリフレクタンス分光法を用いたプラズマ誘起Si基板ダメージの定量化とそのプロファイル解析
温度制御型フォトリフレクタンス分光法を用いたプラズマ誘起Si基板ダメージの定量化とそのプロファイル解析
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使用温控光反射光谱对等离子体引起的硅衬底损伤进行量化及其轮廓分析
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
斧高一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
松田朝彦;中久保義則;鷹尾祥典;江利口浩二;斧高一
