偏光高速度イメージング装置を用いた塗布流動場における分子配向挙動の空間的評価
偏光高速度イメージング装置を用いた塗布流動場における分子配向挙動の空間的評価
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使用偏振高速成像设备对涂层流场中的分子取向行为进行空间评估
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
若木志郎，北島直之，高橋勉，伊藤雅利，大沼隼志
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shiro WAKAKI;Yoshiki YAMADA;Tsutomu TAKAHASHI;Shiro WAKAKI and Tsutomu TAKAHASHI;八友大知，杉原幸信，高橋勉;若木志郎，北島直之，高橋勉，伊藤雅利，大沼隼志
