S.Inoue, H.Tanaka, K.Koterazawa: "Effects of argon and nitrogen partial pressure on internal stress, resistivity and structure of reactive sputtered TiN films"Proc. the 9th Intnl. Conf. on Production Engng., Osaka. 624-629 (1999)
S.Inoue, H.Tanaka, K.Koterazawa: "Effects of argon and nitrogen partial pressure on internal stress, resistivity and structure of reactive sputtered TiN films"Proc. the 9th Intnl. Conf. on Production Engng., Osaka. 624-629 (1999)
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S.Inoue，H.Tanaka，K.Koterazawa：“氩和氮分压对反应溅射 TiN 薄膜的内应力、电阻率和结构的影响”Proc。
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