Photoresponse in gate-tunable atomically thin lateral MoS 2 Schottky junction patterned by electron beam
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电子束图案化栅极可调原子薄横向 MoS 2 肖特基结的光响应
DOI：
10.1063/1.4979831
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S. Katsumoto and J. Haruyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Katagiri;T. Nakamura;C. Ohata;S. Katsumoto and J. Haruyama
