Far field subwavelength focusing using optical eigenmodes
Far field subwavelength focusing using optical eigenmodes
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DOI：
10.1063/1.3587636
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发表时间：
2011-05-02
影响因子：
4
通讯作者：
Dholakia, Kishan
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Baumgartl, Joerg;Kosmeier, Sebastian;Dholakia, Kishan
我们报告的光的聚焦，以产生一个亚衍射，亚波长的焦点的全宽半峰222 nm，在工作波长为633 nm，使用光学本征模的方法。至关重要的是，光斑是在显微镜物镜的焦平面上产生的，从而为应用提供了实际的工作距离。光学本征模方法是利用空间光调制器上的贝塞尔光束的最佳叠加来实现的。部分相干的影响也进行了讨论。这种远场方法是一个关键的进步，朝着亚衍射光学特征的成像和光刻的目的。(C)2011年美国物理学会。[doi：10.1063/1.3587636]
We report the focusing of light to generate a subdiffractive, subwavelength focal spot of full width half maximum 222 nm at an operating wavelength of 633 nm using an optical eigenmode approach. Crucially, the spot is created in the focal plane of a microscope objective thus yielding a practical working distance for applications. The optical eigenmode approach is implemented using an optimal superposition of Bessel beams on a spatial light modulator. The effects of partial coherence are also discussed. This far field method is a key advance toward the generation of subdiffractive optical features for imaging and lithographic purposes. (C) 2011 American Institute of Physics. [doi: 10.1063/1.3587636]