ミストCVD法により成膜したGaOx膜のアニール効果（Ⅱ）
ミストCVD法により成膜したGaOx膜のアニール効果（Ⅱ）
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雾气CVD法形成GaOx薄膜的退火效果（二）
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉田 晴彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
松田 紘明;森 英喜;新船 幸二;吉田 晴彦
