Disorder-Induced Enhancement of Impact Ionization Rate in Silicon Nanodots

Disorder-Induced Enhancement of Impact Ionization Rate in Silicon Nanodots
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无序诱导的硅纳米点碰撞电离率的增强

DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
Nobuya Mori
Nobuya Mori
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Ken Kanazawa;Taku Nishimura;Shoji Yoshida;Hidemi Shigekawa and Shinji Kuroda;Nobuya Mori;Nobuya Mori

文献摘要

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