Absolute evaluation of out-of-band radiation from laser produced Sn plasma for extreme ultraviolet lithography application
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用于极紫外光刻应用的激光产生的 Sn 等离子体的带外辐射的绝对评估
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Sakaguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Itakura;T. Tanaka;M. Kuwata;H;Suzuki;K. Yamanouchi;H. Sakaguchi
