Evaluation of time-dependent compound layer formation and removal at target surface by model calculation of mass balance change in reactive sputtering
Evaluation of time-dependent compound layer formation and removal at target surface by model calculation of mass balance change in reactive sputtering
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通过反应溅射中质量平衡变化的模型计算来评估靶材表面随时间变化的化合物层的形成和去除
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Mune-aki Sakamoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Eiji Kusano.;Mune-aki Sakamoto
