X.Huang, T.Wang, K.Yamahara, T.Taishi and K.Hoshikawa: "In situ observation of the Interfacial Phase Formation at Si Melt/Silica Glass Interface"Japanese Journal of Applied Physics. 39. 3281-3285 (2000)
X.Huang, T.Wang, K.Yamahara, T.Taishi and K.Hoshikawa: "In situ observation of the Interfacial Phase Formation at Si Melt/Silica Glass Interface"Japanese Journal of Applied Physics. 39. 3281-3285 (2000)
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X.Huang、T.Wang、K.Yamahara、T.Taishi 和 K.Hoshikawa：“硅熔体/二氧化硅玻璃界面处界面相形成的原位观察”日本应用物理学杂志。
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