Sub-10 nm width high aspect trench patterning of gold film using helium ion microscope
Sub-10 nm width high aspect trench patterning of gold film using helium ion microscope
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使用氦离子显微镜对金膜进行亚 10 nm 宽高深宽沟槽图案化
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Etsuo Maeda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
浅野竜太郎;Etsuo Maeda
