Low Temperature (< 100 oC) Deposited P-Type Cuprous Oxide Thin Films: Importance of Controlled Oxygen and Deposition Energy
Low Temperature (< 100 oC) Deposited P-Type Cuprous Oxide Thin Films: Importance of Controlled Oxygen and Deposition Energy
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低温（< 100 oC）沉积 P 型氧化亚铜薄膜：控制氧气和沉积能量的重要性
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Andrew Flewitt
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Andrew Flewitt
