Study on Nanoscale Observatory in Polishing Phenomena applying Optical Evanescent Field - 2nd Report : 4H-SiC Polishing with Nano-Silica Abrasive -
Study on Nanoscale Observatory in Polishing Phenomena applying Optical Evanescent Field - 2nd Report : 4H-SiC Polishing with Nano-Silica Abrasive -
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应用光学倏逝场的抛光现象纳米观测研究 - 第二次报告：使用纳米二氧化硅磨料进行 4H-SiC 抛光 -
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akiyoshi Baba
中科院分区：
文献类型：
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作者：
◯Thitipat Permpatdechakul;Panart Khajornrungruang;Keisuke Suzuki;Akiyoshi Baba
